Die EU-Kommission stimmt einer hohen Förderung aus dem Steuertopf für vier angeblich mittelständische Firmen zu. Es geht um stark spezialisierte Halbleiteranlagen. Doch die Hälfte sind US-Konzerne.
Die Europäische Kommission hat in Deutschland staatliche Beihilfen in Höhe von 659 Millionen Euro zur Förderung von vier neuartigen Halbleiterfertigungen genehmigt. Die Projekte würden, so die Kommission am 14. Juni 2026, die Position und die Autonomie der EU stärken.
“Die heutige Genehmigung der deutschen Unterstützung für vier neue Projekte in der Wertschöpfungskette für Halbleiter zeigt, dass Europa die Ambitionen des EU-Chip-Gesetzes in die Tat umsetzt”, sagte die Exekutiv-Vizepräsidentin Teresa Ribera.
Deutschland wird direkte Zuschüsse für den Bau von vier Halbleiteranlagen gewähren: 353 Millionen Euro gehen an Element 3-5 für eine Anlage in Baesweiler, Nordrhein-Westfalen, zur Herstellung von Epiwafern aus Siliziumcarbid (SiC). 214 Millionen Euro erhält Vishay Siliconix Itzehoe (Vishay) für eine Anlage in Itzehoe, Schleswig-Holstein, zur Herstellung von Silizium-Leistungs-MOSFETs des N- und P-Typs. 74,4 Millionen Euro fließen an KLA-Tencor MIE (KLA) für eine Anlage in Weilburg, Hessen, zur Herstellung optischer Overlay- und Schicht-Messtechnik. Und 17,9 Millionen Euro erhält die Ketek für eine Anlage in München (Bayern) zur Herstellung von spezialisierten Siliziumdriftdetektoren (SDD) und Graphene Radiation Entry Windows (GREW).
Zwei der geförderten Konzerne sind aus den USA, was die Souveränitätsargumentation der EU fraglich erscheinen lässt: Bei Vishay Intertechnology handelt es sich um einen US-amerikanischen Elektronikkonzern. Auch die US-amerikanische KLA Corporation ist Marktführer im Bereich der Prozesssteuerung und Ertragsoptimierung (Yield Management) für die Halbleiterindustrie.
Element 3-5 ist ein deutsches Deep-Tech-Unternehmen, das 2010 als Spin-off der RWTH Aachen startete. ETEK ist ein bayerisches Unternehmen und baut an seinem Hauptstandort in München zwei neue, spezialisierte Produktionslinien auf.
